X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）
有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底，经过等离子清洗，无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。
G-FLAT™氧化硅膜窗口，适合生物成像研究，具有玻璃状亲水表面。外框硅材质，外框大小5*5mm，框厚310μm，膜厚度300nm。无褶皱，与超高真空(UHV)应用兼容。
LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320μm，200 MP 低应力无孔氮化硅。
76042 X-ray应用薄膜窗口.png
产品信息：
货号 产品描述 窗口(Sq.) 膜厚 规格
76042-10 G-FLAT™ SiO X-Ray Window 500μm 100nm 20/pk
76042-11 G-FLAT™ SiO X-Ray Window 500μm 300nm 20/pk
76042-12 Silicon Nitride X-Ray Window 500μm 50nm 20/pk
76042-13 Silicon Nitride X-Ray Window 1000μm 50nm 20/pk
76042-14 Silicon Nitride X-Ray Window 500μm 100nm 20/pk
76042-15 Silicon Nitride X-Ray Window 1000μm 100nm 20/pk
76042-16 Silicon Nitride X-Ray Window 1500μm 200nm 20/pk
76042-17 Silicon Nitride X-Ray Window 2500μm 200nm 20/pk
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